[뉴스케이프 김은영 기자] [뉴스케이프=김은영 기자]  삼성전자가 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동에 들어갔다.

삼성전자 평택 2라인 공장 전경(사진=삼성전자 제공)

평택 2라인은 축구장 16개 크기(연면적 12만8900㎡)에 달하는 세계 최대 규모의 반도체 생산라인이다. 삼성전자의 차세대 반도체 전초기지 평택캠퍼스의 하나로 지난 2018년 1월 착공됐다.

삼성전자는 30일  평택 2라인 가동을 통해 업계 최초로 EUV(Extreme Ultraviolet·극자외선) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이 생산한다고 밝혔다. 

삼성전자에 따르면 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 메모리 양산제품으로는 처음 EUV 공정이 적용됐다. 역대 최대 용량과 최고 속도를 동시에 구현한 업계 최초의 3세대 1z LPDDR5 제품이다.

삼성전자는 지난 2월 2세대 10나노급(1y) 공정으로 역대 최대 용량의 16GB LPDDR5 D램을 양산한 지 6개월 만에 차세대 1z 공정까지 프리미엄 모바일 D램 라인업을 강화하게 됐다.

이번 제품은 기존 플래그십 스마트폰용 12Gb 모바일 D램보다 16% 빠른 6400Mb/s의 동작 속도를 구현했다. 16GB 제품 기준으로 1초당 풀HD급 영화(5GB) 약 10편에 해당하는 51.2GB를 처리할 수 있다.

또 8개의 칩만으로 16GB 제품을 구성할 수 있어 기존 제품 대비 30% 얇은 패키지를 만드는 것도 가능하다. 이를 통해 멀티카메라, 5G 등 부품수가 많은 스마트폰 및 폴더블폰 등 두께가 중요한 제품에 최적의 솔루션을 제공할 전망이다.

차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 구축돼 D램 양산을 시작으로 4차 산업혁명 시대 반도체 초격차 달성을 위한 핵심 기지가 될 전망이다.

이재용 부회장은 지난해 4월 '시스템반도체 비전 선포식' 당시, 세계 최초 EUV 전용 생산시설인 'V1라인' 건설 현장을 직접 찾았고, 올해 초에는 화성에 위치한 반도체연구소와 생산라인을 방문해 'EUV 기술' 개발 현황과 라인 가동 상황을 점검한 바 있다.

꾸준히 준비해 온 삼성의 'EUV 기술'은 속속 가시적인 성과를 보이고 있다.삼성전자는 최근 7나노 EUV 기술을 적용한 IBM의 차세대 서버용 POWER 10  프로세서를 수주했다.

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